半導(dǎo)體材料在電子科學(xué)技術(shù)中的發(fā)展前景
【摘要】近些年來,我國的經(jīng)濟水平和科技水平都在飛速發(fā)展,各個行業(yè)得到突飛猛進的進步,其最重要的技術(shù)基礎(chǔ)就是半導(dǎo)體材料的不斷創(chuàng)新。電子科學(xué)技術(shù)中的半導(dǎo)體材料的應(yīng)用滲透于我們生活中的各個領(lǐng)域,為各個行業(yè)的發(fā)展做出巨大貢獻。從第一代以硅、鍺為代表的半導(dǎo)體材料發(fā)展到現(xiàn)階段的第三代半導(dǎo)體材料,半導(dǎo)體材料的性能得到了巨大的提升,并將會在未來的各種新技術(shù)的發(fā)展中持續(xù)處于重要地位
【關(guān)鍵詞】電子科學(xué)技術(shù)半導(dǎo)體發(fā)展趨勢
引言:現(xiàn)階段,我國的各個行業(yè)的發(fā)展都離不開電子科學(xué)技術(shù)的進步,而半導(dǎo)體材料是現(xiàn)代電子科學(xué)工業(yè)重要的基礎(chǔ)產(chǎn)品。在現(xiàn)代社會的發(fā)展過程中,半導(dǎo)體材料始終處于重要地位。目前,以帶隙寬度明顯大于硅和砷化鎵的寬禁帶半導(dǎo)體作為第三代半導(dǎo)體材料為代表在各個領(lǐng)域都發(fā)揮著各位優(yōu)越的性能,并為各個行業(yè)的進步與發(fā)展做出巨大貢獻。
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一、電子科學(xué)技術(shù)中的半導(dǎo)體材料發(fā)展的背景與意義
雖然現(xiàn)階段的社會發(fā)展離不開電子科學(xué)技術(shù)中的半導(dǎo)體材料的支持,但半導(dǎo)體材料僅僅經(jīng)歷了數(shù)十年的發(fā)展。從第一代半導(dǎo)體材料的出現(xiàn),以硅和鍺為代表的第一代半導(dǎo)體因為儲存量較大和制作工藝較為成熟等原因快速的取得廣泛的應(yīng)用,直到現(xiàn)階段的各種技術(shù)仍在很多領(lǐng)域應(yīng)用第一代半導(dǎo)體材料。在電子科學(xué)技術(shù)發(fā)展初期,半導(dǎo)體材料的發(fā)展并不順利,最早應(yīng)用于半導(dǎo)體材料制作的元素是鍺,但由于鍺的化學(xué)性活潑,極易與半導(dǎo)體設(shè)備中的其他材料發(fā)生氧化還原反應(yīng),進而生成化學(xué)性穩(wěn)定的氧化鍺,從而大幅度降低了鍺的導(dǎo)電性,嚴(yán)重阻礙了電子科學(xué)技術(shù)的發(fā)展。同時,鍺的產(chǎn)量也遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于硅的產(chǎn)量,這也嚴(yán)重的限制了當(dāng)時半導(dǎo)體材料的發(fā)展。直到上個世紀(jì)八十年代,在紅外光學(xué)領(lǐng)域的技術(shù)突破,使鍺這種半導(dǎo)體材料取得了在紅外光學(xué)領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,隨后也在太陽能電池領(lǐng)域得到了較為廣泛的應(yīng)用。隨著人們對電子科學(xué)技術(shù)研究的不斷深入和對半導(dǎo)體材料的認(rèn)識不斷深化,逐漸開發(fā)出第二代和第三代半導(dǎo)體材料。尤其是第三代半導(dǎo)體材料具有寬禁帶、高熱導(dǎo)率、高的擊穿電場,高抗輻射能力、高電子飽和性以及高速率等特點在各個領(lǐng)域中得到了廣泛的應(yīng)用,同時在未來仍有十分廣闊的發(fā)展前景。
二、電子科學(xué)技術(shù)中半導(dǎo)體材料的特點
半導(dǎo)體材料是一種具有介于導(dǎo)體與絕緣體之間特性的一種材料,通常用來制作電路中的各種電子器件。現(xiàn)階段使用的半導(dǎo)體材料主要分為元素半導(dǎo)體,化合物半導(dǎo)體和固溶半導(dǎo)體。
三、電子科學(xué)技術(shù)中的半導(dǎo)體材料的發(fā)展趨勢
電子科學(xué)技術(shù)中的半導(dǎo)體材料歷經(jīng)數(shù)十年的發(fā)展,已經(jīng)經(jīng)歷了三代。第一代主要是以硅和鍺為主的半導(dǎo)體材料,為現(xiàn)代的電子科學(xué)技術(shù)的發(fā)展做出巨大貢獻。其主要應(yīng)用于低壓、低頻、低功耗的集成電路中。同時由于硅材料的原料豐富,成本較低,在未來的電子科學(xué)技術(shù)發(fā)展中同樣會是重要的半導(dǎo)體材料。隨著科技的發(fā)展,因為硅半導(dǎo)體材料在高壓和高頻電子器件受到限制等問題,第二代半導(dǎo)體材料的應(yīng)用主要是以砷化鎵(GaAs)和磷化銦(InP)為代表,并在信貸信息產(chǎn)業(yè)中得到發(fā)展。由于砷化鎵的電子遷移率遠(yuǎn)高于第一代半導(dǎo)體材料硅,且具有較寬的帶隙,可以滿足高頻和高速的工作環(huán)境下,其性能十分符合現(xiàn)代通信行業(yè)的需求。但第二代半導(dǎo)體材料也存在著十分嚴(yán)重的弊端,首先第二代半導(dǎo)體材料隨交予第一代有了明顯的進步,但其禁帶寬度仍然不夠大,擊穿電場較低,在高溫、高功率的應(yīng)用場景下并不理想。其次,砷化鎵的原材料具有毒性,對環(huán)境和人體都不夠友好。基于第二代半導(dǎo)體材料的局限性,在此基礎(chǔ)上研發(fā)的第三代半導(dǎo)體材料得到了巨大的優(yōu)化。第三代半導(dǎo)體材料的帶隙寬度得到了明顯的增大,具有較高的擊穿電場,較強的抗輻射性,較高的熱導(dǎo)率和較高的電子飽和速率等優(yōu)點。第三代半導(dǎo)體可以在較高的溫度下穩(wěn)定運行,并且消耗的電能較少,運行效率更高,而且還可以在高電壓和高頻率的條件下良好的運行。
四、小結(jié)
從第一代半導(dǎo)體材料發(fā)展到現(xiàn)階段的第三代半導(dǎo)體材料,電子科學(xué)技術(shù)得到的巨大的發(fā)展,同時也帶動了周邊產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,也為我國的發(fā)展起到了重要的推動作用。在新的時代,人們必然會對半導(dǎo)體材料的要求逐步提高,相關(guān)的研究者也應(yīng)該積極面對時代的進步,在原有技術(shù)上不斷創(chuàng)新,不斷改革,不斷生產(chǎn)出可以滿足各個行業(yè)需求的半導(dǎo)體材料。
參考文獻
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